光リソグラフィー用光学部材及び投影光学系

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994242448
Publication number (International publication number)：1996107060
Application date： Oct. 06, 1994
Publication date： Apr. 23, 1996
Summary：

【要約】【目的】微細で鮮明な、例えば線幅0.3μm 以下の露光・転写パターンを実現することが可能な光リソグラフィー用光学部材及び投影光学系を提供する。【構成】光学部材の屈折率の高均質性に加え、複屈折量の絶対値が2.0nm/cm以下、複屈折量の分布が中央対称、屈折率楕円体における進相軸方向が中央対称であることにより、投影レンズの設計性能に近い解像度を得ることが可能になる。

Claim (excerpt)：

400nm以下の特定波長帯域で使用される光リソグラフィー用光学部材において、複屈折量の分布が中央対称性を有することを特徴とする光学部材。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

エキシマレーザー用合成石英ガラス光学部材及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-210622 Applicant：信越石英株式会社
紫外線レーザー用合成石英ガラス光学部材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-299997 Applicant：信越石英株式会社
特開平3-109223

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