ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999372757
Publication number (International publication number)：2001249458
Application date： Dec. 28, 1999
Publication date： Sep. 14, 2001
Summary：

【要約】【課題】高感度で高解像力を有し、現像欠陥および表面ザラツキが改善された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(a)特定構造の酸分解性基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)下記一般式(X)で示される基を含有する構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】一般式(X)中、R1、R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、R3、R4は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、直鎖、分岐、環状アルキル基を表し、R5は、置換基を有してもよい直鎖、分岐、環状アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基を表す。mは1〜20の整数を表し、nは0〜5の整数を表す。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/004 504 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 504 , H01L 21/30 502 R

F-Term (17)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BF15 , 2H025BG00 , 2H025CB17 , 2H025CB45 , 2H025CC04 , 2H025CC20 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-049097 Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
新規なレジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-353490 Applicant：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
感放射線性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-152412 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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