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J-GLOBAL ID：200903085718196117

新規なエステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法

Inventor： 金生 剛 ,  西 恒寛 ,  栗原 英志 ,  長谷川 幸士 ,  渡辺 武 ,  渡辺 修 ,  中島 睦雄 ,  武田 隆信 ,  畠山 潤
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999307148
Publication number (International publication number)：2000336121
Application date： Oct. 28, 1999
Publication date： Dec. 05, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【解決手段】 下記一般式(1a)で示されるエステル化合物を構成単位として含有する重量平均分子量1,000〜500,000の高分子化合物。(R1は水素原子、メチル基又はCH2CO2R14を示す。R2は水素原子、メチル基又はCO2R14を示す。R3は炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数6〜20の置換されていてもよいアリール基を示す。R4〜R13は水素原子又は炭素数1〜15のヘテロ原子を含んでもよい1価の炭化水素基を示し、互いに環を形成していてもよく、その場合には炭素数1〜15のヘテロ原子を含んでもよい2価の炭化水素基を示す。R4〜R13は隣接する炭素に結合するもの同士で何も介さずに結合し、二重結合を形成してもよい。R14は炭素数1〜15のアルキル基を示す。)【効果】 高エネルギー線に感応し、感度、解像性、エッチング耐性に優れているため、電子線や遠紫外線による微細加工に有用である。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1は水素原子、メチル基又はCH2CO2R14を示す。R2は水素原子、メチル基又はCO2R14を示す。R3は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又は炭素数6〜20の置換されていてもよいアリール基を示す。R4〜R13はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜15のヘテロ原子を含んでもよい1価の炭化水素基を示し、互いに環を形成していてもよく、その場合には炭素数1〜15のヘテロ原子を含んでもよい2価の炭化水素基を示す。またR4〜R13は隣接する炭素に結合するもの同士で何も介さずに結合し、二重結合を形成してもよい。R14は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。また、本式により、鏡像体も表す。)

IPC (7)：

C08F 20/10 ,  C07C 69/533 ,  C07C 69/593 ,  C08F 22/10 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (7)：

C08F 20/10 ,  C07C 69/533 ,  C07C 69/593 ,  C08F 22/10 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (64)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA10 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB55 ,  2H025FA01 ,  4H006AA01 ,  4H006AB46 ,  4H006AB76 ,  4H006BJ30 ,  4J100AB02Q ,  4J100AB02R ,  4J100AB02S ,  4J100AJ02R ,  4J100AK32R ,  4J100AL03S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08S ,  4J100AL09R ,  4J100AL16P ,  4J100AL39P ,  4J100AL46P ,  4J100AR11Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA04S ,  4J100BA07R ,  4J100BA07S ,  4J100BA11Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA16R ,  4J100BA22R ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC07P ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC53S ,  4J100BC60Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 感光性組成物、およびこれを用いたパターン形成方法ならびに電子部品の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-366051   Applicant：株式会社東芝
• 新規アクリルモノマー、新規アクリルポリマー、レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-074295   Applicant：日本ゼオン株式会社