感光性組成物、およびこれを用いたパターン形成方法ならびに電子部品の製造方法

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997366051
Publication number (International publication number)：1999084663
Application date： Dec. 24, 1997
Publication date： Mar. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】短波長の紫外線に対して高い光透過性を示し、優れたアルカリ溶解性を有するとともに、基板との密着性やドライエッチング耐性も良好であり、レジスト材料として好適な感光性組成物を提供する。【解決手段】下記一般式(1A)で表される繰り返し単位を有する高分子重合体と、化学放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物である。【化1】上記一般式(1A)中、R11は、水素原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子またはシアノ基であり、R12は、脂肪族炭化水素基または環状オレフィンであり、R13は、a)炭素数2から12以下の直鎖オレフィン、環状オレフィンまたは複素環基、およびb)-(CH2 )m -(mは3以上9以下の整数である)で表わされる炭化水素基のいずれか一方である。R14は、親水性基である。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1A)で表わされる繰り返し単位を有する高分子重合体と、化学放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有する感光性組成物。【化1】(上記一般式(1A)中、R11は、水素原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子またはシアノ基であり、R12は、脂肪族炭化水素基または環状オレフィンであり、R13は、a)炭素数2から12以下の直鎖オレフィン、環状オレフィンまたは複素環基、およびb)-(CH2 )m -(mは3以上9以下の整数である)で表わされる炭化水素基のいずれか一方である。R14は、親水性基である。)

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , C08F 20/10 , G03F 7/033 , H01L 21/027 , H01L 21/3065

FI (5)：

G03F 7/039 601 , C08F 20/10 , G03F 7/033 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/302 H

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

感光性材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-185046 Applicant：株式会社東芝
ポジ型化学増幅レジスト組成物及びこれに使用する化合物の製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-262790 Applicant：富士写真フイルム株式会社
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-050264 Applicant：富士通株式会社

Show all

Cited by examiner (10)

感光性材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-185046 Applicant：株式会社東芝
ポジ型化学増幅レジスト組成物及びこれに使用する化合物の製法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-262790 Applicant：富士写真フイルム株式会社
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-050264 Applicant：富士通株式会社

Show all

Return to Previous Page