Pat
J-GLOBAL ID:200903085865561335
(メタ)アクリル酸エステル、重合体、レジスト組成物、およびパターンが形成された基板の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005231384
Publication number (International publication number):2007045924
Application date: Aug. 09, 2005
Publication date: Feb. 22, 2007
Summary:
【課題】 ディフェクトの生成が抑制され、レジストパターンのラインエッジラフネスを小さくすることができるレジスト組成物を提供する。このようなレジスト組成物に好適な重合体であって熱安定性の良好な重合体を提供する。このような重合体に好適な多官能(メタ)アクリル酸エステルを提供する。【解決手段】 (メタ)アクリル酸2-(2-ビニロキシエトキシ)エチルのビニル基にメタクリル酸のカルボン酸を付加する等により製造したアセタール構造を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル。【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記式(1)で表されるアセタール構造を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル。
IPC (5):
C08F 20/28
, G03F 7/039
, H01L 21/027
, C07C 69/003
, C07C 69/54
FI (5):
C08F20/28
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
, C07C69/003 C
, C07C69/54 Z
F-Term (32):
2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AA10
, 2H025AA11
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB21
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025FA17
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB46
, 4H006KC14
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL65S
, 4J100BA02S
, 4J100BA03R
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC53P
, 4J100CA06
, 4J100FA19
, 4J100JA37
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-311568
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
架橋形成ポジ型ホトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-250175
Applicant:東京応化工業株式会社
Cited by examiner (1)
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架橋形成ポジ型ホトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-250175
Applicant:東京応化工業株式会社
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