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J-GLOBAL ID:200903085879658250

金属カルボニル前駆体からの金属層の成膜速度を上げる方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 伊東 忠彦
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2007543038
Publication number (International publication number):2008520835
Application date: Oct. 03, 2005
Publication date: Jun. 19, 2008
Summary:
金属カルボニル前駆体(52、152)の気相原料を一酸化炭素ガスと混合することにより、金属カルボニル前駆体(52、152)からの金属層の堆積速度を増大する方法(300)が開示される。この方法(300)は、堆積システム(1、100)のプロセスチャンバ(10、110)に基板(25、125)を提供する工程と、金属カルボニル前駆体の気相原料を含むプロセスガスを生成する工程と、熱化学気相堆積プロセスによって基板(25、125、400、402)に金属層(440、460)を堆積するために基板(25、125、400、402)をプロセスガスに晒す工程とを含む。
Claim (excerpt):
基板に金属層を堆積する方法であって: 堆積システムのプロセスチャンバに基板を提供する工程; 金属カルボニル前駆体の気相原料と一酸化炭素ガスとを含むプロセスガスを生成する工程;および 熱化学気相堆積プロセスによって前記基板に金属層を堆積するため、前記基板を前記プロセスガスに晒す工程; を有する方法。
IPC (5):
C23C 16/16 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/320 ,  H01L 23/52 ,  H01L 21/28
FI (4):
C23C16/16 ,  H01L21/285 C ,  H01L21/88 R ,  H01L21/28 301R
F-Term (54):
4K030AA12 ,  4K030AA14 ,  4K030BA05 ,  4K030BA06 ,  4K030BA12 ,  4K030BA20 ,  4K030CA04 ,  4K030FA10 ,  4K030JA05 ,  4K030JA09 ,  4K030JA10 ,  4K030LA15 ,  4M104BB04 ,  4M104BB13 ,  4M104BB16 ,  4M104BB17 ,  4M104BB18 ,  4M104BB32 ,  4M104BB33 ,  4M104BB36 ,  4M104DD43 ,  4M104DD44 ,  4M104DD45 ,  4M104FF17 ,  4M104FF18 ,  4M104FF22 ,  5F033HH07 ,  5F033HH11 ,  5F033HH15 ,  5F033HH17 ,  5F033HH19 ,  5F033HH20 ,  5F033HH21 ,  5F033HH31 ,  5F033HH32 ,  5F033HH34 ,  5F033JJ07 ,  5F033JJ11 ,  5F033JJ15 ,  5F033JJ17 ,  5F033JJ19 ,  5F033JJ21 ,  5F033JJ31 ,  5F033JJ32 ,  5F033JJ34 ,  5F033MM01 ,  5F033MM12 ,  5F033MM13 ,  5F033NN06 ,  5F033NN07 ,  5F033PP02 ,  5F033PP06 ,  5F033WW03 ,  5F033WW06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 成膜方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-322924   Applicant:東京エレクトロン株式会社
  • 成膜方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-367073   Applicant:東京エレクトロン株式会社

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