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J-GLOBAL ID:200903085926528557

プラズマ処理装置および方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 河宮 治 ,  石野 正弘 ,  川端 純市
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006504028
Publication number (International publication number):2006525627
Application date: Apr. 30, 2004
Publication date: Nov. 09, 2006
Summary:
間隔を空けた電極の間に交流電圧を印加することにより、プラズマ処理したガス透過性素材を作成する。電極の少なくとも1つは誘電バリアで覆われ、また、電極の少なくとも1つは、複数の分離型電極セグメントを有する。もって間隔を空けた電極の間にプラズママイクロ放電を発生させる。ガス透過性素材は、間隔を空けた電極の間またはその近隣を通される。ガスは電極セグメントの間を通り、電極間の空間を通り抜けて、ガス透過性素材を通り抜ける。ガスは、各電極セグメントのプラズマ発生面上を流れる。その速さは、間隔を空けた電極の間を流れるガス流が乱流化してプラズママイクロ放電をランダム化し、かつ、ガス透過性素材内において燃焼につながる不安定性を引き起こしかねないプラズマ生成物を分散させる速さである。このランダム化されたプラズママイクロ放電によっておしなべて均一なプラズマ処理をガス透過性素材に施すことができる。また、この処理方法を展開するための装置を開示する。
Claim (excerpt):
ガス透過性素材に対しプラズマ処理する装置であって、 (a)離隔した電極であって、前記電極の少なくとも1つは誘電バリアに覆われ、かつ、前記電極の少なくとも1つは複数の分離型電極セグメントを備える、前記離隔した電極と、 (b)前記離隔した電極間に交流電圧を印加し、前記離隔した電極間にプラズママイクロ放電を発生させる交流電圧印加手段と、 (c)前記ガス透過性素材を、前記離隔した電極の間または近傍を通過させる手段と、 (d)前記電極セグメント間にあるガスを、前記電極の間隙を通りかつ前記ガス透過性素材を通り抜けるように移動させるガス移動手段であって、もって前記ガスは前記電極セグメントのプラズマ生成界面を流され、ここで、前記ガスの流れの速さは、前記離隔した電極間において前記流れが乱流となり、よって前記プラズママイクロ放電をランダム化しかつ前記ガス透過性素材内において燃焼につながる不安定を生じさせるプラズマ生成物を分散させるような速さである、前記ガス移動手段とを有し、 前記ランダム化されたマイクロ放電によって概ね均一なプラズマ処理が前記ガス透過性素材に施されることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3):
H05H 1/24 ,  D06M 10/02 ,  B01J 19/08
FI (3):
H05H1/24 ,  D06M10/02 C ,  B01J19/08 E
F-Term (13):
4G075AA30 ,  4G075AA61 ,  4G075BA05 ,  4G075BD14 ,  4G075CA26 ,  4G075CA47 ,  4G075DA18 ,  4G075EC21 ,  4G075EE05 ,  4G075FA03 ,  4G075FB02 ,  4L031CB05 ,  4L031DA00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (21)
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Cited by examiner (18)
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