大気圧プラズマ生成方法および装置並びに表面処理方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴木喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997169011
Publication number (International publication number)：1999016696
Application date： Jun. 25, 1997
Publication date： Jan. 22, 1999
Summary：

【要約】【課題】ヘリウムガスなどの希ガスを用いずに、または希ガスの使用量と少なくして大気圧下において容易にプラズマを生成することができるようにする。【解決手段】誘電体からなるセル12には、ガス流路14が形成してある。セル12の一端側には、第1ガス供給ヘッド16が設けてあって、予備放電用ガスを大気圧したにあるガス流路14に供給できるようにしてある。予備放電用ガスは、低周波電極26に印加された低周波電圧によって電離または活性化され、低周波電極26と高周波電極28との間に設けた第2ガス供給ヘッド30から流入した主放電用ガスとともにプラズマ生成領域38に供給される。高周波電極28は、プラズマ生成領域38のガスに高周波電界を作用し、グロー放電を発生させてプラズマを生成する。

Claim (excerpt)：

低周波電圧が印加されている予備放電電極間に放電用ガスを供給し、少なくともその一部を電離または活性化して大気圧またはその近傍の圧力下にある主放電電極間に供給し、前記主放電電極間に高周波電圧を印加してプラズマを発生させることを特徴とする大気圧プラズマ生成方法。

IPC (4)：

H05H 1/46 , C23F 4/00 , H01L 21/027 , H01L 21/3065

FI (5)：

H05H 1/46 A , H05H 1/46 L , C23F 4/00 E , H01L 21/30 572 A , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

プラズマ処理装置及びその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-344404 Applicant：セイコーエプソン株式会社
特開昭63-136628
高周波プラズマヒータおよびその運転方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-073634 Applicant：株式会社日立製作所

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