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J-GLOBAL ID:200903086299591791

汚染水中のヒ素除去法およびそれに用いる処理剤

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 植木 久一 ,  菅河 忠志 ,  二口 治 ,  伊藤 浩彰
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007044189
Publication number (International publication number):2008207071
Application date: Feb. 23, 2007
Publication date: Sep. 11, 2008
Summary:
【課題】アルカリ性であるヒ素含有水中のヒ素を効率よく除去し得る方法を提供すること。【解決手段】ヒ素含有水中のヒ素を除去するための方法であって、鉄粉と酸性溶液とを接触させることにより得られた酸処理鉄粉に、水中のヒ素を吸着させて除去することを特徴とする方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
ヒ素含有水中のヒ素を除去するための方法であって、鉄粉と酸性溶液とを接触させることにより得られた酸処理鉄粉に、水中のヒ素を吸着させて除去することを特徴とする方法。
IPC (2):
C02F 1/28 ,  B01J 20/06
FI (3):
C02F1/28 B ,  C02F1/28 E ,  B01J20/06 A
F-Term (31):
4D024AA02 ,  4D024AA04 ,  4D024AA05 ,  4D024AB17 ,  4D024BA14 ,  4D024BB01 ,  4D024BC04 ,  4D024DB12 ,  4D624AA02 ,  4D624AA04 ,  4D624AA05 ,  4D624AB17 ,  4D624BA14 ,  4D624BB01 ,  4D624BC04 ,  4D624DB12 ,  4G066AA02A ,  4G066AA27B ,  4G066AA34D ,  4G066AA47D ,  4G066AA50D ,  4G066AA53D ,  4G066AB07D ,  4G066AE01D ,  4G066BA09 ,  4G066CA46 ,  4G066DA07 ,  4G066DA08 ,  4G066FA11 ,  4G066FA21 ,  4G066FA36
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (6)
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