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J-GLOBAL ID：200903086458965673

不純物除去装置

Inventor： 稲葉 仁 ,  岡村 典明 ,  田中 雄造
Applicant, Patent owner： 高砂熱学工業株式会社
Agent (1)： 金本 哲男 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001045204
Publication number (International publication number)：2002239331
Application date： Feb. 21, 2001
Publication date： Aug. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】 処理した空気中における除去ガス成分の濃度を上昇させることなく,処理空気中の可溶性ガスを吸収する吸収液のpH値を短時間で所定の範囲内になるように制御する。【解決手段】 処理空気中の可溶性ガスを、チャンバ2内において清浄な吸収液との気液接触によって除去し、前記吸収液を循環して利用する不純物除去装置1であって、循環水配管15中に吸収液のpH値を検出するpHセンサ20を有している。pHセンサ20の検出結果に基づいて、制御装置14が給水配管12の二方弁13と一般水補給配管の二方弁18の開閉とを同時に制御し,一般水の給水によるpH調整中は,清浄な吸収液の補給を停止する。

Claim (excerpt)：

処理空気中の可溶性ガスを,チャンバ内において清浄な吸収液との気液接触によって除去する装置であって,前記吸収液を循環させて利用するための吸収液の循環系と,少なくとも前記気液接触に伴う吸収液の損失分を前記循環系に補給する補給路と前記循環系にある吸収液のpH値を検出するpHセンサと,前記循環系にある吸収液のpH値を調整するpH調整手段とを有し,前記pHセンサの検出結果に基づいて,前記pH調整手段を作動させると共に前記補給路からの吸収液の補給を停止させる制御装置とを有することを特徴とする,不純物除去装置。

IPC (3)：

B01D 53/14 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/46

FI (3)：

B01D 53/14 C ,  C02F 1/42 C ,  C02F 1/46 Z

F-Term (28)：

4D020AA06 ,  4D020AA10 ,  4D020BA23 ,  4D020BB03 ,  4D020CB25 ,  4D020CC07 ,  4D020DA01 ,  4D020DA02 ,  4D020DA03 ,  4D020DB08 ,  4D020DB20 ,  4D025AA06 ,  4D025AB02 ,  4D025BA00 ,  4D025BB00 ,  4D025CA01 ,  4D025CA03 ,  4D025CA10 ,  4D061DA05 ,  4D061DB18 ,  4D061DC13 ,  4D061EA02 ,  4D061EB04 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061FA11 ,  4D061GA07 ,  4D061GC20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 空気中可溶性ガス除去装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-120912   Applicant：高砂熱学工業株式会社
• 気中不純物除去装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-252527   Applicant：高砂熱学工業株式会社
• 不純物除去装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-025451   Applicant：高砂熱学工業株式会社