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J-GLOBAL ID：200903086504119022

ハイドロタルサイト系水和金属化合物とその製造方法、及びこの化合物を焼成したアルキレンオキサイドの付加反応触媒、並びにこの触媒の評価方法

Inventor：
松井 誠二

About 松井 誠二

, 
田里 伊佐雄

About 田里 伊佐雄


Applicant, Patent owner：
神島化学工業株式会社

About 神島化学工業株式会社


Agent (1)： 塩入 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002135531
Publication number (International publication number)：2003327426
Application date： May. 10, 2002
Publication date： Nov. 19, 2003
Summary：
【要約】【構成】 水酸化マグネシウムや塩基性または中性の炭酸マグネシウムをマグネシウム源とし、水酸化アルミニウムをアルミニウム源として、120°C〜300°Cで水熱反応させて、ハイドロタルサイト系水和金属化合物を得る。得られたハイドロタルサイト系水和金属化合物を400〜800°Cで焼成して、活性水素原子含有化合物へのアルキレンオキサイドの付加反応触媒とする。また0.001〜0.1mol/Lの規定濃度に調製した酸性水溶液中に、ハイドロタルサイト系水和金属化合物を0.05〜2wt%の濃度になるように添加した懸濁液に、0.1〜10mol/Lの強塩基滴定剤を滴下して、懸濁液のpHをガラス電極で電位差滴定した際に、pH=7からpH=10.3の変曲点までに要した水酸化物イオン消費量から、触媒性能を評価する。【効果】 アルキレンオキサイドの付加反応での、反応率や反応選択性に優れた触媒が得られる。
Claim (excerpt)：
式(1)で表されるハイドロタルサイト系水和金属化合物であって、規定濃度で0.001〜0.1mol/Lに調製した酸性水溶液中に、前記水和金属化合物を0.05〜2wt%の濃度になるように添加した懸濁液に、0.1〜10mol/Lの強塩基滴定剤を滴下して、懸濁液のpHをガラス電極で電位差滴定した際に、pH=7からpH=10.3の変曲点までに要した水酸化物イオン消費量が、ハイドロタルサイト系水和金属化合物1g当たり、2mmol以下であることを特徴とするハイドロタルサイト系水和金属化合物。 Mg1-xAlx(OH)2(CO3)x/2・mH2O (0<x<0.5,0<m<2) (1)
IPC (4)：
C01F 7/00 ,  B01J 21/10 ,  C07C 41/03 ,  C07C 43/11
FI (4)：
C01F 7/00 C ,  B01J 21/10 Z ,  C07C 41/03 ,  C07C 43/11
F-Term (30)：
4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC10A ,  4G069BC10B ,  4G069BC16A ,  4G069BC16B ,  4G069CB25 ,  4G069EA01Y ,  4G069FB04 ,  4G069FB06 ,  4G069FB34 ,  4G069FB77 ,  4G076AA10 ,  4G076AA16 ,  4G076AA18 ,  4G076AA19 ,  4G076AA21 ,  4G076AB06 ,  4G076AB09 ,  4G076AB10 ,  4G076BA12 ,  4G076BD02 ,  4G076DA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006AC43 ,  4H006GP01 ,  4H006GP10
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
  • スピネルの製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-262868   Applicant：工業技術院長
  • ハイドロタルサイトの製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-120274   Applicant：旭電化工業株式会社
  • 特開昭60-231416
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Cited by examiner (14)
  • スピネルの製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-262868   Applicant：工業技術院長
  • ハイドロタルサイトの製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-120274   Applicant：旭電化工業株式会社
  • 特開昭60-231416
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