2次イオン分析装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：本庄武男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002150138
Publication number (International publication number)：2003344320
Application date： May. 24, 2002
Publication date： Dec. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】試料から飛散する2次イオンの捕捉率を高めるとともに,測定対象以外のノイズとなるイオンを除去できる2次イオン分析装置を提供すること。【解決手段】真空容器20内の試料1に所定の入射ビーム2を照射して試料1表面から飛散させた2次イオン3を四重極電極4による電場に通過させた後にイオン検出器13により検出する。磁場発生器7〜10により試料1から入射ビーム2上流側の所定領域に入射ビーム2と平行な1テスラ以上の平行磁場を発生させ,四重極電極4をその中心軸に入射ビーム2を通過させるよう平行磁場内に配置する。さらに,四重極電極4における四重極高周波電場の周波数を,試料1から飛散する2次イオン3のうち,分析対象である2次イオン以外の所定の多数イオン元素のサイクロトロン周波数の整数倍とする。また,2次イオン検出部13を,入射ビーム2上流側から下流側に向かって末広がりの筒状に形成する。

Claim (excerpt)：

真空容器内の試料に所定の入射ビームを照射することにより前記試料表面から2次イオンを飛散させ,該2次イオンを四重極電極による電場に通過させた後にイオン検出器により検出する2次イオン分析装置において,少なくとも前記試料から前記入射ビーム上流側の所定領域に前記入射ビームと平行な磁場を発生させる磁場発生手段を具備し,前記四重極電極がその電場に前記入射ビームを通過させるよう前記平行な磁場内に配置され,前記イオン検出器の検出部が,前記四重極電極よりも前記入射ビーム上流側の前記真空容器内に配置されてなることを特徴とする2次イオン分析装置。

IPC (4)：

G01N 23/225 , G01N 27/62 , H01J 37/252 , H01J 49/42

FI (5)：

G01N 23/225 , G01N 27/62 E , G01N 27/62 L , H01J 37/252 B , H01J 49/42

F-Term (25)：

2G001AA05 , 2G001AA07 , 2G001BA06 , 2G001CA05 , 2G001DA01 , 2G001DA02 , 2G001EA05 , 2G001EA20 , 2G001GA00 , 2G001GA10 , 2G001KA01 , 2G001MA05 , 2G001PA07 , 5C033NN05 , 5C033NP01 , 5C033NP05 , 5C033QQ03 , 5C033QQ09 , 5C038GG02 , 5C038GG07 , 5C038GH12 , 5C038GH13 , 5C038JJ02 , 5C038JJ06 , 5C038JJ09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

元素分析方法及び元素分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-262388 Applicant：日本電気株式会社
特開昭62-037860
特開昭62-097249

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