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J-GLOBAL ID：200903087048836791

磁気記録媒体用基板及びその粗面化方法

Inventor： 金子 英雄
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 山本 亮一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997151743
Publication number (International publication number)：1998340443
Application date： Jun. 10, 1997
Publication date： Dec. 22, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 高記録密度化が可能で、エラーレート、CSS 特性の優れた表面荒れを有する磁気記録媒体用シリコン基板と、その表面粗面化方法を提供する。【解決手段】 磁性薄膜を有する磁気記録媒体に用いる基板において、基板がシリコンからなり、情報を記録する面の最大高さ(Rmax)が 100nm以下であり、かつ深さ0.2 μm以上面積1μm2 以上の窪みが1個/mm2以下であり、最大高さRmaxの最小値をmin(Rmax) 、最大値をmax(Rmax) とすると、min(Rmax) /max(Rmax) >0.2であることを特徴とする磁気記録媒体用基板。

Claim (excerpt)：

磁性薄膜を有する磁気記録媒体に用いる基板において、基板がシリコンからなり、情報を記録する面の最大高さ(Rmax)が 100nm以下であり、かつ深さ0.2 μm以上面積1μm2 以上の窪みが1個/mm2以下であり、最大高さRmaxの最小値をmin(Rmax) 、最大値をmax(Rmax) とすると、min(Rmax) /max(Rmax) >0.2であることを特徴とする磁気記録媒体用基板。

IPC (2)：

G11B 5/66 ,  G11B 5/84

FI (2)：

G11B 5/66 ,  G11B 5/84 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 磁気記録媒体基板およびその粗面化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-057076   Applicant：信越化学工業株式会社
• 半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-046237   Applicant：富士通株式会社
• 薄膜磁気デイスクの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-291239   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開昭53-057144