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J-GLOBAL ID：200903087281259001

全反射蛍光X線分析装置

Inventor： 宇高 忠
Applicant, Patent owner： 理学電機工業株式会社
Agent (1)： 杉本 修司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997051414
Publication number (International publication number)：1998253554
Application date： Mar. 06, 1997
Publication date： Sep. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】同一試料について広範囲の複数の元素の同時分析が容易にできる全反射蛍光X線分析装置を提供する。【解決手段】複数の照射系1,2による1次X線B2の試料50への入射角φ1,φ2が互いに相違しているので、同一試料50に複数の相異なる1次X線B2を同時に入射させることにより、広範囲の複数の元素を同時に蛍光X線分析できる。

Claim (excerpt)：

試料表面に1次X線を照射して試料表面で全反射を生じさせる照射系と、前記試料からの蛍光X線を検出するX線検出器とを備えた全反射蛍光X線分析装置において、前記照射系が複数設けられ、各照射系による1次X線の試料への入射角が互いに相違していることを特徴とする全反射蛍光X線分析装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-208900
  
• 全反射蛍光X線分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-273976   Applicant：株式会社テクノス研究所
• 蛍光X線分析方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-350602   Applicant：花王株式会社, 株式会社テクノス