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J-GLOBAL ID:200903087460310109

導電性高分子の製造方法、導電性高分子成形品、電解伸縮方法及び積層体、並びにその用途

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 宮崎 伊章
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003206821
Publication number (International publication number):2004197069
Application date: Aug. 08, 2003
Publication date: Jul. 15, 2004
Summary:
【課題】優れた1酸化還元サイクル当たりの伸縮率の導電性高分子の製造方法、並びに1酸化還元サイクル当たりの伸縮率が優れた電解伸縮方法を提供する。【解決手段】電気化学的酸化還元による伸縮性を有する導電性高分子を、電解重合法により製造する導電性高分子の製造方法であって、前記電解重合法が、エーテル結合、エステル結合、カーボネート結合、ヒドロキシル基、ニトロ基、スルホン基及びニトリル基のうち少なくとも1つ以上の結合あるいは官能基を含む有機化合物及び/又はハロゲン化炭化水素を溶媒として含む電解液を用い、前記電解液中にトリフルオロメタンスルホン酸イオン及び/または中心原子に対してフッ素原子を複数含むアニオンを含む導電性高分子の製造方法、この製造方法により得られた導電性高分子を含む導電性高分子成形品を用いた電解伸縮方法を用いる。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
電気化学的酸化還元による伸縮性を有する導電性高分子を、電解重合法により製造する導電性高分子の製造方法であって、 前記電解重合法が、エーテル結合、エステル結合、カーボネート結合、ヒドロキシル基、ニトロ基、スルホン基及びニトリル基のうち少なくとも1つ以上の結合あるいは官能基を含む有機化合物及び/又はハロゲン化炭化水素を溶媒として含む電解液を用い、 前記電解液中にトリフルオロメタンスルホン酸イオン及び/または中心原子に対してフッ素原子を複数含むアニオンを含む 導電性高分子の製造方法。
IPC (5):
C08G85/00 ,  A61F2/08 ,  B25J19/00 ,  C08G61/12 ,  C08J5/00
FI (5):
C08G85/00 ,  A61F2/08 ,  B25J19/00 A ,  C08G61/12 ,  C08J5/00
F-Term (39):
3C007HS02 ,  3C007HS21 ,  4C097AA20 ,  4C097BB01 ,  4C097DD01 ,  4C097EE01 ,  4C097EE03 ,  4C097EE07 ,  4C097EE08 ,  4C097MM04 ,  4F071AA69 ,  4F071AA80 ,  4F071AF21 ,  4F071AF37 ,  4F071AH17 ,  4F071AH19 ,  4F071BC01 ,  4F071BC05 ,  4F071BC06 ,  4F071BC07 ,  4F100AK01A ,  4F100AK80A ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100GB41 ,  4F100GB66 ,  4F100JG01A ,  4F100JK08 ,  4F100JK08A ,  4J031CA06 ,  4J031CA37 ,  4J031CA67 ,  4J031CA90 ,  4J032BA03 ,  4J032BA13 ,  4J032BB01 ,  4J032BB04 ,  4J032BC25 ,  4J032BC32
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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