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J-GLOBAL ID:200903087699524968

オゾンによる容器,配管類の洗浄方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 梶 良之 ,  須原 誠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003367174
Publication number (International publication number):2005131453
Application date: Oct. 28, 2003
Publication date: May. 26, 2005
Summary:
【課題】 食品製造装置等の容器,配管類の合理的なオゾン洗浄法を提供する。【解決手段】 被洗浄物である容器類(1,L2,L3)を水洗浄する水洗浄工程と、該水洗浄工程に引き続き、前記容器類中にオゾンガスを注入して前記水洗浄工程で前記容器類の壁面に付着した静止状態の水膜にオゾンガスを溶解させてオゾン水膜を形成し、該オゾン水膜によって前記容器類の洗浄を行う第1オゾン洗浄工程と、前記オゾンガス中に霧化水を供給して該霧化水中にオゾンガスを溶解して霧化オゾン水を形成し、該霧化オゾン水を前記オゾン水膜に溶解させて前記容器類の洗浄を行う第2オゾン洗浄工程と、オゾンガス中に霧化水を供給して霧化オゾン水を形成した霧化オゾン水とオゾンガスとの混合流体を前記容器類中に供給し、該混合流体によって前記オゾン水膜にオゾンを供給して容器類の洗浄を行う第3オゾン洗浄工程とを組み合わせて行う容器,配管類の洗浄方法。【選択図】図1
Claim (excerpt):
オゾンによる容器,配管類の洗浄方法であって 被洗浄物である前記容器(1)及び該容器に接続された配管(L2,L3)類を水洗浄する水洗浄工程と、 前記水洗浄工程に引き続き、前記容器(1)及び配管(L2,L3)類中にオゾンガスを注入し、前記水洗浄工程で前記容器(1)及び配管(L2,L3)類の壁面に付着した水膜に前記オゾンガスを溶解させてオゾン水膜を形成し、該オゾン水膜によって前記容器(1)及び配管(L2,L3)類の洗浄を行う第1オゾン洗浄工程と、 前記オゾンガス中に霧化水を供給して該霧化水中に前記オゾンガスを溶解し、これによって霧化オゾン水を形成し、該霧化オゾン水によって前記オゾン水膜にオゾンを供給しつつ前記容器(1)及び配管(L2,L3)類の洗浄を行う第2オゾン洗浄工程と、 を有する事を特徴とするオゾンによる容器,配管類の洗浄方法
IPC (7):
B08B9/20 ,  A61L2/18 ,  A61L2/20 ,  B01F1/00 ,  B08B3/08 ,  B08B5/00 ,  B08B9/027
FI (7):
B08B9/20 ,  A61L2/18 ,  A61L2/20 J ,  B01F1/00 A ,  B08B3/08 A ,  B08B5/00 A ,  B08B9/06
F-Term (27):
3B116AA13 ,  3B116AA21 ,  3B116AA46 ,  3B116AB01 ,  3B116BB21 ,  3B116BB62 ,  3B116BB71 ,  3B201AA13 ,  3B201AA21 ,  3B201AA46 ,  3B201AB01 ,  3B201BB21 ,  3B201BB62 ,  3B201BB71 ,  3B201BB92 ,  3B201BB94 ,  3B201BB96 ,  4C058AA24 ,  4C058AA25 ,  4C058BB07 ,  4C058JJ07 ,  4C058JJ14 ,  4C058JJ21 ,  4C058JJ24 ,  4G035AA01 ,  4G035AB02 ,  4G035AB04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)
  • 特開平3-080538
  • 容器殺菌方法及び装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-303765   Applicant:石川島播磨重工業株式会社
  • 基板処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-270858   Applicant:大日本スクリーン製造株式会社

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