表面付着異質物質の除去方法及び除去装置

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岩見谷周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001234037
Publication number (International publication number)：2003045842
Application date： Aug. 01, 2001
Publication date： Feb. 14, 2003
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】半導体基板、液晶用ガラス基板などの電子デバイス用基板をはじめとする種々の物品の表面付着異質物質(レジスト等)を短時間処理で除去し、清浄化することができる効率のよい表面付着異質物質除去方法および除去装置を提供すること。【解決手段】異質物質の付着した被処理体1の表面にオゾン可溶性溶剤を適用して液膜を形成させ、該表面と該表面に近接した天板14または他の被処理体との間の層状間隙に高濃度オゾン含有ガスを導入し、前記液膜と接触させて、被処理体表面の付着異質物質を除去することを特徴とする表面付着異質物質の除去方法。

Claim (excerpt)：

異質物質が付着した被処理体の表面に、該表面を十分に濡らすことができるオゾン可溶性溶剤を適用するとともに、これにより形成される液膜に対して、前記被処理体とその表面に近接した天板または他の被処理体との間の層状間隙に導入した高濃度のオゾンを含むガスを接触させて、被処理体の表面に付着した異質物質を除去することを特徴とする表面付着異質物質の除去方法。

IPC (5)：

H01L 21/304 645 , H01L 21/304 647 , G02F 1/13 101 , G03F 7/42 , H01L 21/027

FI (5)：

H01L 21/304 645 Z , H01L 21/304 647 Z , G02F 1/13 101 , G03F 7/42 , H01L 21/30 572 B

F-Term (10)：

2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 2H096AA25 , 2H096LA02 , 5F046MA02 , 5F046MA05 , 5F046MA13 , 5F046MA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

フォトレジスト膜除去方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-323503 Applicant：三菱電機株式会社
レジストの剥離液及び剥離方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-173191 Applicant：株式会社日立製作所
基板表面処理方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-208968 Applicant：三菱電機株式会社

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