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J-GLOBAL ID：200903087805302724

パターン設計方法

Inventor： 小谷 敏也 ,  井上 壮一 ,  三本木 省次 ,  山元 和子
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997289767
Publication number (International publication number)：1999126824
Application date： Oct. 22, 1997
Publication date： May. 11, 1999
Summary：

【要約】【課題】 補助パターン等を設けることなく設計パターンに忠実な転写パターンを形成することができ、データ量の増大を招くことなく仕上がりパターンの寸法精度向上をはかる。【解決手段】 LSIパターンを設計する方法において、パターン設計に先立って、屈曲している設計パターンを分割して得られる矩形の長さBと線幅Wをパラメータとし、矩形の長さBに対して所望の線幅Wが得られる線幅Cを補正値としてテーブル化しておき、パターン設計に際して、まず線分の長さの上限値Bmaxを決め、屈曲している設計パターンの線分のうちで長さが上限値Bmax より短い線分を抽出し、次いで抽出された線分を含む矩形4を抽出し、次いで抽出された矩形4の線幅Wをテーブルを参照して線幅Cに補正する。

Claim (excerpt)：

屈曲している設計パターンを分割して得られる単位図形の長さBと線幅Wをパラメータとし、単位図形の長さBに対して所望の線幅Wが得られる線幅Cを補正値としてテーブル化しておく工程と、補正対象とする線分の長さの上限値Bmax を決める工程と、屈曲している設計パターンの線分のうちで長さが上限値Bmax より短い線分を抽出する工程と、抽出された線分を含む単位図形を抽出する工程と、抽出された単位図形の線幅Wを前記テーブルを参照して線幅Cに補正する工程とを含むことを特徴とするパターン設計方法。

IPC (4)：

H01L 21/82 ,  G03F 1/08 ,  G06F 17/50 ,  H01L 21/30

FI (5)：

H01L 21/82 W ,  G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 ,  G06F 15/60 658 M ,  G06F 15/60 666 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• パターン形状の変形方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-213225   Applicant：シャープ株式会社
• LSIレイアウトパタンデ-タリサイズ方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-131440   Applicant：日本電信電話株式会社