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J-GLOBAL ID:200903088079402036
浮遊パーティクル検出装置及び浮遊パーティクル検出方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
日向寺 雅彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007162463
Publication number (International publication number):2009002733
Application date: Jun. 20, 2007
Publication date: Jan. 08, 2009
Summary:
【課題】パーティクルの飛来方向を検出することができる浮遊パーティクル検出装置及び浮遊パーティクル検出方法を提供する。【解決手段】浮遊パーティクル検出装置1において、レーザ光のビームB0を出射するレーザ光源11と、ビームB0の直径を拡大させてビームB1とする拡径手段12と、レーザ光の進行方向を軸13cに対して一定の角度をなし且つ連続した方向に変化させて、レーザ光をシート状の空間Sに分布させる回転ミラー13とを設ける。拡径手段12は、平凹レンズ12a及び平凸レンズ12bにより構成する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
レーザ光のビームを出射するレーザ光源と、
前記ビームの直径を拡大させる拡径手段と、
前記レーザ光の進行方向を基準軸に対して一定の角度をなし且つ連続した方向に変化させて、前記レーザ光をシート状の空間に分布させる分布手段と、
を備えたことを特徴とする浮遊パーティクル検出装置。
IPC (3):
G01N 15/00
, G01N 15/06
, G01N 21/53
FI (3):
G01N15/00 A
, G01N15/06 D
, G01N21/53 Z
F-Term (15):
2G059AA05
, 2G059BB02
, 2G059CC19
, 2G059EE02
, 2G059FF01
, 2G059FF04
, 2G059GG01
, 2G059JJ02
, 2G059JJ11
, 2G059JJ15
, 2G059JJ17
, 2G059KK04
, 2G059MM10
, 2G059MM14
, 2G059PP04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
特開昭61-288138号公報
-
特開昭61-262633号公報
Cited by examiner (5)
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流体中の浮遊粒子計測方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-234474
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
パーティクルセンサーヘッド
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-199889
Applicant:ウシオ電機株式会社
-
光散乱式広域粒子計測装置およびそれを用いた粒子計測方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-013367
Applicant:三菱電機株式会社
-
浮遊粒子濃度計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-120285
Applicant:富士電機株式会社
-
塵粒子検出器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-145993
Applicant:日電アネルバ株式会社
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