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J-GLOBAL ID:200903088140019860
頭部の三次元形状計測システム
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中井 潤
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003336826
Publication number (International publication number):2005106491
Application date: Sep. 29, 2003
Publication date: Apr. 21, 2005
Summary:
【課題】 計測場所に計測装置を持ち込んで人間の頭部の三次元形状を計測する場合等であっても、簡単に、毛髪を含めた頭部の鮮明な三次元形状を計測することのできる計測システムを提供する。【解決手段】 各々、測定対象物107に正弦波格子パターンを投射する格子パターン投射手段101と、正弦波格子パターンが投射された測定対象物の画像を撮影する画像撮影手段100と、格子パターン投射手段を保持しながら、格子パターン投射手段を一定の方向に一定量ずつ移動させる格子駆動手段とを備え、各々独自の原点と座標軸とからなる座標系を有する複数の三次元形状計測装置104、105と、複数の三次元形状計測装置の座標系を一致させる統合キャリブレーション手段とを備え、格子パターン投射手段は、毛髪計測用と顔面計測用とで異なる輝度の正弦波格子パターン光を投射する頭部の三次元形状計測システム。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
各々、測定対象物に正弦波格子パターンを投射する格子パターン投射手段と、前記正弦波格子パターンが投射された測定対象物の画像を撮影する画像撮影手段と、前記格子パターン投射手段を保持しながら、該格子パターン投射手段を一定の方向に一定量ずつ移動させる格子駆動手段とを備え、各々独自の原点と座標軸とからなる座標系を有する複数の三次元形状計測装置と、
該複数の三次元形状計測装置の座標系を一致させる統合キャリブレーション手段とを備え、
前記格子パターン投射手段は、毛髪計測用と顔面計測用とで異なる輝度の正弦波格子パターン光を投射することを特徴とする頭部の三次元形状計測システム。
IPC (3):
G01B11/25
, G01B11/24
, G06T1/00
FI (4):
G01B11/24 E
, G06T1/00 315
, G01B11/24 A
, G01B11/24 K
F-Term (28):
2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065CC16
, 2F065DD04
, 2F065FF04
, 2F065FF09
, 2F065FF41
, 2F065FF61
, 2F065HH06
, 2F065HH14
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ26
, 2F065MM11
, 2F065NN01
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065RR09
, 5B057AA20
, 5B057BA02
, 5B057BA29
, 5B057DA07
, 5B057DB03
, 5B057DB05
, 5B057DB09
, 5B057DC09
, 5B057DC16
, 5B057DC32
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
-
形状計測装置およびその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-174554
Applicant:日本電気株式会社
-
3次元データの生成システムおよび投光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-243859
Applicant:ミノルタ株式会社
-
半導体製造に用いる複数視野較正プレート
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平9-522959
Applicant:コグネックスコーポレイション
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Cited by examiner (5)
-
形状計測装置およびその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-174554
Applicant:日本電気株式会社
-
3次元データの生成システムおよび投光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-243859
Applicant:ミノルタ株式会社
-
半導体製造に用いる複数視野較正プレート
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平9-522959
Applicant:コグネックスコーポレイション
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