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J-GLOBAL ID：200903088386475342
近接場光プローブ作製装置及びその作製方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
園田 敏雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003431119
Publication number (International publication number)：2005189108
Application date： Dec. 25, 2003
Publication date： Jul. 14, 2005
Summary：
【課題】 近接場光プローブに被覆する金属膜の厚さが大きい場合や、該金属膜の比熱が大きく融点が高い場合でも、金属膜の被覆と溶解を繰り返すことにより、大きな出力の光源を用いることなく、また作製に長時間を要することなく近接場光プローブの作製を行い、従来技術の問題点を解決すること。【解決手段】 端面が先鋭化された光ファイバ先端に金属膜を成膜し、この金属膜を光の照射により溶解して微小開口を形成することにより、近接場光プローブを作製する近接場光プローブ作製装置であって、 前記光ファイバ先端に金属膜を成膜する成膜手段と、前記金属膜を溶解し得るエネルギーをもつ光を発生する光源と、前記光源から照射される光を前記光ファイバの先鋭化されていない端面に導光する導光手段と、前記成膜手段による成膜工程、及び前記金属膜に微小開口を形成する開口形成工程を制御する制御手段とを備えて成り、前記金属膜の成膜と溶解を繰り返すことである。【選択図】図3
Claim (excerpt)：
端面が先鋭化された光ファイバ先端に金属膜を成膜し、この金属膜を光の照射により溶解して微小開口を形成することにより、近接場光プローブを作製する近接場光プローブ作製装置であって、
前記光ファイバ先端に金属膜を成膜する成膜手段と、
前記金属膜を溶解し得るエネルギーをもつ光を発生する光源と、
前記光源から照射される光を前記光ファイバの先鋭化されていない端面に導光する導光手段と、
前記成膜手段による成膜工程、及び前記金属膜に微小開口を形成する開口形成工程を制御する制御手段とを備えて成り、
前記金属膜の成膜と溶解を繰り返すことを特徴とする近接場光プローブ作製装置。
IPC (4)：
G01N13/14
, G11B7/135
, G11B7/22
, G12B21/06
G01N13/14 B
, G11B7/135 A
, G11B7/22
, G12B1/00 601C
5D789AA38
, 5D789CA06
, 5D789CA22
, 5D789JA66
, 5D789NA05
