検査用光学系および検査装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：落合稔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994141118
Publication number (International publication number)：1995325036
Application date： May. 31, 1994
Publication date： Dec. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】被写界深度を大きくして試料の観測部分がフォーカスの合う範囲の中に入り易い検査装置を提供することを目的とする。【構成】照射光学系Kにより平行光を試料8に照射し、その透過光または反射光を観測光学系6により集束し、その後方の観測部7で試料8の観測を行うための検査用光学系Kにおいて、観測光学系Kは、テレセントリック光学部6と、テレセントリック光学部6の後像空間焦平面またはその近傍に配設された開口絞り12とを備えていることを特徴とする検査用光学系K。

Claim (excerpt)：

照射光学系により平行光を試料に照射し、その透過光または反射光を観測光学系により集束し、その後方の観測部で前記試料の観測を行うための検査用光学系において、前記観測光学系は、テレセントリック光学部と、当該テレセントリック光学部の後像空間焦平面またはその近傍に配設された開口絞りとを備えていることを特徴とする検査用光学系。

IPC (5)：

G01N 21/84 , G01B 11/30 , G01N 21/88 , H01L 21/66 , G02B 13/22

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開平1-274283
検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-187450 Applicant：芳賀一実, 株式会社レイテックス
特開平4-084705

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