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J-GLOBAL ID:200903088617150018

高周波コイル装置及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 舘野 千惠子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000236900
Publication number (International publication number):2002050519
Application date: Aug. 04, 2000
Publication date: Feb. 15, 2002
Summary:
【要約】【課題】 コイルインダクタンスのバラツキが少なくGHz帯用に適した高周波コイル装置及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 誘電体基板としてのポリイミド層20表面にファインピッチのスパイラル形状をなすコイル18が埋設され、その底面及び側面がポリイミド層20によって被覆されている。このスパイラル形状のコイル18は、Niメッキ層14及びCuメッキ層16が積層されたNi-Cu積層構造となっていると共に、その側面は略垂直であって、その幅は高精度に均一になっている。そして、このスパイラル形状のコイル18表面、即ち上層のNiメッキ層14表面は、Auメッキ層22によって被覆されている。
Claim (excerpt):
誘電体基板と、前記誘電体基板表面に所定のコイルパターンに埋設され、底面及び側面が前記誘電体基板によって被覆されている導電体層からなるコイルと、を具備することを特徴とする高周波コイル装置。
IPC (2):
H01F 17/00 ,  H01F 41/04
FI (2):
H01F 17/00 B ,  H01F 41/04 C
F-Term (9):
5E062DD01 ,  5E070AA01 ,  5E070AB04 ,  5E070AB07 ,  5E070BA01 ,  5E070CB02 ,  5E070CB04 ,  5E070CB08 ,  5E070CB20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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