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J-GLOBAL ID:200903088631509150

結晶化用基板及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 小谷 悦司 ,  伊藤 孝夫 ,  樋口 次郎 ,  原田 智裕
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004362765
Publication number (International publication number):2005206454
Application date: Dec. 15, 2004
Publication date: Aug. 04, 2005
Summary:
【課題】 結晶化を安定的に行うことができる結晶化用基板を提供する。【解決手段】 基材表面に、一方の末端に前記基材表面と共有結合を形成可能な末端結合官能基を含み、他方の末端に、前記液体に非親和性の特性を示す官能基を含む有機分子を接触させ、前記有機分子の末端結合官能基と前記基材表面の活性水素とを反応させて共有結合を形成することにより、前記基材表面に前記液体に非親和性を示す有機分子膜を形成することによって、結晶化用基板を製造する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
結晶化に用いられる結晶化用基板であって、 基材の表面が液体に非親和性を示す有機分子膜で被覆され、且つ、前記基材表面と前記有機分子膜とは共有結合によって結合していることを特徴とする結晶化用基板。
IPC (1):
C30B29/58
FI (1):
C30B29/58
F-Term (8):
4G077AA01 ,  4G077AA02 ,  4G077AA03 ,  4G077BF05 ,  4G077ED04 ,  4G077ED06 ,  4G077EE06 ,  4G077HA20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (10)
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