電子線描画方法およびその装置並びにマーク記録方法

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001237374
Publication number (International publication number)：2003051437
Application date： Aug. 06, 2001
Publication date： Feb. 21, 2003
Summary：

【要約】【課題】露光量制御に基づいて、微小な記録マークあるいは半導体素子のパターンをより正確に形成することができるようにした電子線描画方法およびその装置並びにマーク記録方法を提供することにある。【解決手段】ブランキング機能にブランキング機能と露光量制御機能を持たせ、これらを信号処理あるいは2つのブランキング電極で実現した。その結果、記録マークの幅制御の際に発生する露光量変化に対応して露光量を補正することができ、均一な露光密度を得ることができる。

Claim (excerpt)：

微小に絞った電子線を試料に照射して微細パターンを描画する方法において、前記微細パターンを描画する電子線の露光量を制御することを特徴とする電子線描画方法。

IPC (5)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G11B 7/26 501 , H01J 37/147 , H01J 37/305

FI (5)：

G03F 7/20 504 , G11B 7/26 501 , H01J 37/147 C , H01J 37/305 B , H01L 21/30 541 E

F-Term (14)：

2H097BB01 , 2H097CA16 , 2H097LA10 , 2H097LA20 , 5C033GG03 , 5C034BB03 , 5C034BB04 , 5D121BB26 , 5D121BB38 , 5F056AA02 , 5F056CB05 , 5F056CB13 , 5F056CB16 , 5F056EA03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

光ディスク基板の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-054377 Applicant：シャープ株式会社
光ディスク原盤露光機及び光ディスク原盤製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-038500 Applicant：株式会社リコー
情報記録媒体作製用原盤および情報記録媒体の各製造方法と露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-104991 Applicant：ソニー株式会社

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