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J-GLOBAL ID：200903088869101559

発光分析装置

Inventor：
貝發 達也

About 貝發 達也


Applicant, Patent owner：
株式会社島津製作所

About 株式会社島津製作所


Agent (1)： 小林 良平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998345666
Publication number (International publication number)：2000171400
Application date： Dec. 04, 1998
Publication date： Jun. 23, 2000
Summary：
【要約】【課題】 分析済みの多数の試料の管理を容易にする。【解決手段】 分析前にオペレータは入力部21より試料を特定するための文字記号やその彫刻位置などを入力しておく。分析時にはレーザ光源1から発したレーザ光はミラー2で反射してセル4内に導入され、固体試料8上面に照射される。分析終了直後に、制御部17は先に入力された文字記号などから作成された座標データに応じてレーザ光源1とミラー駆動部9とを制御し、先の分析部位の近傍に文字記号をレーザ光により彫刻する。これにより、手作業による試料識別のラベル貼りや記入が不要となり、分析部位まで特定可能な細かい管理が行える。
Claim (excerpt)：
固体試料にレーザ光を照射し、そのエネルギにより試料を蒸発気化させて発光部へと導入する発光分析装置において、a)前記レーザ光を発するレーザ光源と、b)試料表面へのレーザ光の照射位置を移動させるレーザ光偏向手段と、c)文字記号等の識別情報及び該識別情報を書き込む位置情報を含むデータを作成するデータ作成手段と、d)該データ作成手段により作成されたデータに応じてレーザ光の照射位置を走査するべく前記レーザ光偏向手段を制御する走査制御手段と、を備えることを特徴とする発光分析装置。
IPC (2)：
G01N 21/73 ,  G01N 1/28
FI (2)：
G01N 21/73 ,  G01N 1/28 T
F-Term (15)：
2G043AA01 ,  2G043BA01 ,  2G043CA06 ,  2G043DA01 ,  2G043DA05 ,  2G043EA08 ,  2G043GA02 ,  2G043GA07 ,  2G043GB01 ,  2G043GB19 ,  2G043HA01 ,  2G043HA02 ,  2G043JA04 ,  2G043KA09 ,  2G043LA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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