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J-GLOBAL ID：200903088965394907

走査型露光装置

Inventor：
谷津 修

About 谷津 修

, 
森 孝司

About 森 孝司


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993177736
Publication number (International publication number)：1995037776
Application date： Jul. 19, 1993
Publication date： Feb. 07, 1995
Summary：
【要約】【目的】 スリットスキャン露光方式の露光装置で、短時間で且つ高精度にウエハ上での照度むらを測定する。【構成】 ウエハステージを介して幅D2の矩形の露光領域14に対して-X方向にウエハを走査し、露光領域14に対応する照明領域に対してレチクルを走査することにより、レチクルのパターンを逐次ウエハ上に転写露光する。ウエハステージ上に走査方向の幅D1(>D2)の受光面25aを有する照度センサーを取り付け、ウエハステージを駆動して受光面25aを露光領域14に対してY方向に移動することにより、露光領域14のY方向の照度むらを測定する。
Claim (excerpt)：
照明光によるスリット状の照明領域に対してマスクを所定の方向に走査し、前記照明領域に対応するスリット状の露光領域に対して基板を所定の方向に走査することにより、前記マスク上のパターンを逐次前記基板上に露光する走査型露光装置において、前記スリット状の露光領域内の前記照明光の光量を前記基板の走査方向に積分して受光する光電変換手段を、該光電変換手段の受光面が前記基板の露光面と同じ高さになるように設け、前記光電変換手段の光電変換信号より前記スリット状の露光領域内の前記基板の走査方向に垂直な方向の照度むらを測定するようにしたことを特徴とする走査型露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (2)：
H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 514
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (16)
  • 走査型露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-176781   Applicant：キヤノン株式会社
  • 特開昭63-033818
  • 投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-185298   Applicant：三菱電機株式会社
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