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J-GLOBAL ID:200903089008307179
レジスト塗布組成物溶液
Inventor:
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992351164
Publication number (International publication number):1994175359
Application date: Dec. 07, 1992
Publication date: Jun. 24, 1994
Summary:
【要約】【目的】 特にレジスト感度の安定性に優れたレジスト塗布組成物溶液を提供する。【構成】 感放射線性酸発生剤を含有するレジスト塗布組成物溶液において、金属の合計含有量が単体換算で200ppb以下であることを特徴とするレジスト塗布組成物溶液。
Claim (excerpt):
放射線の照射により酸を発生する成分を含有し、その酸の触媒作用による化学反応により、放射線照射部分における現像液に対する溶解性が変化することによって、レジストパターンを形成するレジスト塗布組成物の溶液において、溶液中の金属の合計含有量が単体換算で200ppb以下であることを特徴とするレジスト塗布組成物溶液。
IPC (5):
G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/038 505
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開昭63-126502
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特開昭59-176303
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特表平7-504762
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レジスト成分からの不純物の除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-234496
Applicant:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
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レジスト成分からの金属不純物の除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-234495
Applicant:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
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