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J-GLOBAL ID:200903089071704633
磁気ランダムアクセスメモリ
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002118214
Publication number (International publication number):2003318365
Application date: Apr. 19, 2002
Publication date: Nov. 07, 2003
Summary:
【要約】【課題】 MRAMのTMR素子に書き込み磁界を効率よく作用させる。【解決手段】 TMR素子23の直下には、書き込みワード線20Bが配置される。書き込みワード線20Bは、X方向に延び、その側面及び下面は、高透磁率を有するヨーク材25Bにより覆われている。ヨーク材25Bは、書き込みワード線20Bの上面よりも上部に突出している。TMR素子23の直上には、データ選択線(読み出し/書き込みビット線)24が配置される。データ選択線24は、X方向に交差するY方向に延び、その上面は、高透磁率を有するヨーク材27により覆われている。
Claim (excerpt):
半導体基板の上部に形成され、磁気抵抗効果を利用してデータを記憶するメモリセルと、前記メモリセルの直下に配置され、第1方向に延びる第1書き込み線と、前記メモリセルの直上に配置され、前記第1方向に交差する第2方向に延びる第2書き込み線と、前記第1書き込み線の側面を覆い、前記第1書き込み線の上面よりも上部に突出している第1ヨーク材とを具備することを特徴とする磁気ランダムアクセスメモリ。
IPC (3):
H01L 27/105
, G11C 11/15 120
, H01L 43/08
FI (3):
G11C 11/15 120
, H01L 43/08 Z
, H01L 27/10 447
F-Term (9):
5F083FZ10
, 5F083JA36
, 5F083JA37
, 5F083JA39
, 5F083JA40
, 5F083MA06
, 5F083MA16
, 5F083MA19
, 5F083PR40
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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磁気記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-157484
Applicant:株式会社東芝
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磁気メモリ装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-085095
Applicant:ソニー株式会社
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磁気メモリ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-007877
Applicant:株式会社東芝
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磁気ランダムアクセスメモリ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-116387
Applicant:株式会社東芝
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