感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大島正孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996036458
Publication number (International publication number)：1997230596
Application date： Feb. 23, 1996
Publication date： Sep. 05, 1997
Summary：

【要約】【課題】 IC、LCD用TFT回路などの回路製造用であって、耐薬品性、感度、現像性、残膜率、耐熱性および基板との密着性に優れた、アルカリ水溶液からなる現像液によって現像しうるポジ型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 [A](a-1)不飽和カルボン酸の重合単位および(a-2)下記一般式[I]【化1】(式中、R1〜R3は各々独立に、水素原子または炭素数1〜5のアルキル基であり、R4は炭素数1〜5のアルキル基であり、mおよびnは互に独立に1〜5の整数である。)で表される化合物の重合単位を含有する共重合体、[B]1,2-キノンジアジド化合物、並びに[C]潜在性酸発生剤、を含有する感放射線性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

[A](a-1)不飽和カルボン酸の重合単位および(a-2)下記一般式[I]【化1】(式中、R1〜R3は各々独立に、水素原子または炭素数1〜5のアルキル基であり、R4は炭素数1〜5のアルキル基であり、mおよびnは互に独立に1〜5の整数である。)で表される化合物の重合単位を含む共重合体、[B]1,2-キノンジアジド化合物、並びに[C]潜在性酸発生剤、を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/022 , G03F 7/033 , H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/022 , G03F 7/033 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-312524 Applicant：日本ゼオン株式会社
ポジ型ホトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-073613 Applicant：東京応化工業株式会社
特開平2-264954

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Cited by examiner (5)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-312524 Applicant：日本ゼオン株式会社
ポジ型ホトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-073613 Applicant：東京応化工業株式会社
特開平2-264954

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