プラズマ処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner： ,
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995188172
Publication number (International publication number)：1997017850
Application date： Jun. 30, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】【目的】静電チャックシート表面に形成される伝熱ガス吹出孔の位置ずれを抑制することにより、静電チャックシートの耐用期間の向上を図るとともに、被処理体の安定したプラズマ処理を行うことを可能とする。【構成】下部電極3の上面に静電チャックシート15を貼り付けた後に、下部電極3に形成されている伝熱ガス供給孔19の位置に合わせて、静電チャックシート15に伝熱ガス吹出孔を垂直針40等を用いて形成する。

Claim (excerpt)：

処理容器内に被処理体をクーロン力で吸着する静電チャックシートを具備し、プラズマを処理容器内に生成する電極を有するプラズマ処理装置であって、この電極には上記静電チャックシートに向って伝熱ガスを供給する伝熱ガス供給孔が設けられ、上記静電チャックシートには上記供給孔から被処理体の裏面側に上記伝熱ガスを供給する伝熱ガス吹出孔が設けられ、この伝熱ガス吹出孔は上記電極に上記静電チャックシートを装着した後に形成されたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5)：

H01L 21/68 , B23Q 3/15 , C23C 16/44 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (5)：

H01L 21/68 R , B23Q 3/15 D , C23C 16/44 D , H01L 21/205 , H01L 21/302 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

高密度プラズマに使用可能な静電チャック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-302845 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
真空処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-166186 Applicant：東京エレクトロン株式会社

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