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J-GLOBAL ID:200903089365060343
サブミクロンの中空空間を含む成分
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
深見 久郎
, 森田 俊雄
, 仲村 義平
, 堀井 豊
, 野田 久登
, 酒井 將行
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2003568449
Publication number (International publication number):2005517973
Application date: Feb. 12, 2003
Publication date: Jun. 16, 2005
Summary:
光学成分または解析プラットフォームは、基板、基板(3)上の微細構造の配列および隣接する微細構造の側壁によって形成されたマイクロチャンネル(15,15′)を含み、マイクロチャネルの幅は基板までの距離の関数として変化し、この幅は、少なくとも1つの距離間隔内で基板からの距離が増すと連続して減少する。このような成分またはこのようなプラットホームを生成するための方法において、表面の微細構造の配列を有する基板は、蒸気処理でコーティングされ、コーティング機構のシャドーイング効果が微細構造の側壁の上方部分の幅を少なくとも部分的に狭めることにより、少なくとも部分的に埋込まれたマイクロチャネルを形成する。
Claim (excerpt):
基板と、
基板上の微細構造の配列と、
隣接する微細構造の側壁によって形成されたマイクロチャンネルと、基板までの距離の関数として変化するマイクロチャンネルの幅とを含み、前記幅は少なくとも1つの距離間隔内で基板からの距離が増すと連続して減少する、光学成分。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (8):
2H049AA02
, 2H049AA13
, 2H049AA53
, 2H049AA59
, 2H049BA02
, 2H049BA05
, 2H049BA45
, 2H049BC21
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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回折光学素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-079199
Applicant:株式会社三協精機製作所
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特開平3-103802
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光学シートおよびその製造方法と指向性面状光源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-059056
Applicant:東レ株式会社
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選択的化学的気相成長を利用して形成したアルミニウムプラグ及びその形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-039376
Applicant:ユナイテッドマイクロエレクトロニクスコーポレーション
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光学素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-180820
Applicant:株式会社リコー
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