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J-GLOBAL ID：200903089461892759

処理装置

Inventor：
立山 清久

About 立山 清久


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997176892
Publication number (International publication number)：1999026541
Application date： Jul. 02, 1997
Publication date： Jan. 29, 1999
Summary：
【要約】【課題】 クリーンルーム内に設置した場合にデッドスペースを生じさせることなくクリーンルームを効率良く利用できる処理装置を提供する。【解決手段】 カセットキャリア10の長手方向と直交する方向に、互いに平行に配置された2本の搬送路25及び27が配設されている。搬送路25の両側には処理部21aと21b、及び22a〜22cが搬送路25に沿ってそれぞれ配置されており、搬送路27の両側には処理部23aと23b、及び処理部24a〜24cが搬送路27に沿って配置されている。これらの処理部21aと21b、22a〜22c、23aと23b、及び24a〜24cはそれぞれ一組の処理ユニットを形成し、処理ステーション10には合計4組の処理ユニット21〜24が一端をカセットキャリア10に接しながら互いに平行に配設されている。処理ユニットの数を増やして処理ステーション20の幅を大きくし、カセットキャリア10の長手方向の寸法と一致させて処理装置全体が長方形となるようにした。
Claim (excerpt)：
互いにほぼ平行に配置された2つ以上の搬送路と、前記各搬送路に沿って配置された処理部と、各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手段と、前記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び前記搬出入手段に対して搬送する搬送機構とを具備することを特徴とする処理装置。
IPC (4)：
H01L 21/68 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027
FI (4)：
H01L 21/68 A ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 502 J
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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