Pat
J-GLOBAL ID:200903089684055093

高純度窒素ガス製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西藤 征彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002180225
Publication number (International publication number):2004020161
Application date: Jun. 20, 2002
Publication date: Jan. 22, 2004
Summary:
【課題】装置全体を小形化したり、装置全体の構造を簡単化したりすることができ、しかも、設備費や寒冷用の液化窒素の使用量が減少する等安価に高純度窒素ガスを製造することのできる高純度窒素ガス製造装置を提供する。【解決手段】空気圧縮機1と、この空気圧縮機1により圧縮された圧縮空気を冷却する主熱交換器5と、精留塔7と、この精留塔7の上部に設けられた凝縮器18と、この凝縮器18で還流液を製造するための液体空気溜め17と、上記精留塔7の底部の液体空気8を液体空気溜め17に送給するパイプ20とを備え、この液体空気溜め17内の液体空気9を主熱交換器5の中間部に導入して熱交換させ気化させたのち外部へ放出する案内パイプ30を設けている。【選択図】図1
Claim (excerpt):
外部より取り入れた空気を圧縮する空気圧縮手段と、この空気圧縮手段により圧縮された圧縮空気を冷却する熱交換器と、この熱交換器を経由し超低温に冷却された圧縮空気の一部を液化して内部に溜め窒素を気体として保持する精留塔と、この精留塔の上部に設けられた凝縮器と、上記凝縮器で還流液を製造するための液体空気溜めと、上記精留塔の底部の貯溜液体空気を上記液体空気溜めに送給する供給路とを備え、上記液体空気溜めに送給した液体空気の一部を上記熱交換器の中間部に導入して熱交換させ気化させたのち外部へ放出する放出路を設けたことを特徴とする高純度窒素ガス製造装置。
IPC (2):
F25J3/04 ,  C01B21/04
FI (2):
F25J3/04 103 ,  C01B21/04 Z
F-Term (5):
4D047AA08 ,  4D047AB02 ,  4D047BA03 ,  4D047CA09 ,  4D047DA06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page