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J-GLOBAL ID：200903089704906524

光学計測システム

Inventor： 中村 勝重 ,  中村 実 ,  三浦 勝弘 ,  土居 正雄
Applicant, Patent owner： 三鷹光器株式会社
Agent (2)： 三好 秀和 ,  高松 俊雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005275677
Publication number (International publication number)：2007086470
Application date： Sep. 22, 2005
Publication date： Apr. 05, 2007
Summary：

【課題】 測定部位から2つの光学計測器に至る2つの光路を光量の減衰をともなわずに分離して光学計測をすること。【解決手段】 第1の光学計測器および第2の光学計測器を具備する光学計測システムであって、測定部位から前記第1の光学計測器に至る第1の光線を導く第1の光路および前記測定部位から前記第2の光学計測器に至る第2の光線を導く第2の光路が設けられ、前記第1の光路および前記第2の光路が通る光学系が前記第1および第2の光路が相互に近軸となるように設けられ、前記第1の光路の方向を変更する反射領域がこれに交差するように前記第2の光路が設けられ、前記反射領域と前記第2光路が交差する領域に設けられた光透過領域であって前記反射領域より光透過率の高いものを具備する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

第1の光学計測器および第2の光学計測器を具備する光学計測システムであって、 測定部位から前記第1の光学計測器に至る第1の光線を導く第1の光路および前記測定部位から前記第2の光学計測器に至る第2の光線を導く第2の光路が設けられ、 前記第1の光路および前記第2の光路が通る光学系であって、前記第1および第2の光路が相互に近軸に設けられている光学系、 前記光学系を通った前記第1の光路の方向を変更する反射領域であって、これに交差するように前記第2の光路が設けられる反射領域、および 前記反射領域と前記第2光路が交差する位置に設けられた光透過領域であって、前記反射領域より光透過率の高いものを具備することを特徴とする光学計測システム。

IPC (3)：

G02B 7/32 ,  G02B 7/28 ,  G01B 11/00

FI (3)：

G02B7/11 B ,  G02B7/11 N ,  G01B11/00 B

F-Term (36)：

2F065AA02 ,  2F065AA06 ,  2F065AA19 ,  2F065AA53 ,  2F065CC16 ,  2F065DD06 ,  2F065FF10 ,  2F065GG06 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ23 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL20 ,  2F065LL42 ,  2F065LL67 ,  2F065MM26 ,  2F065PP02 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ28 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13 ,  2H051AA15 ,  2H051BB13 ,  2H051BB14 ,  2H051BB22 ,  2H051CB02 ,  2H051CB05 ,  2H051CB11 ,  2H051CB13 ,  2H051CB14 ,  2H051CC03 ,  2H051CC13 ,  2H051CC14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 表面形状測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-106831   Applicant：三鷹光器株式会社
• 立体顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-019157   Applicant：三鷹光器株式会社
• 固定高倍率切換型顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-045479   Applicant：三鷹光器株式会社

Cited by examiner (6)

• オートフォーカス装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-139690   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 層および表面特性の光学測定方法およびその装置
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-523592   Applicant：エムケーエスインストゥルメンツインコーポレーテッド
• 顕微鏡のオートフォーカス方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-129873   Applicant：株式会社日立国際電気
• 分光測光器
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-029618   Applicant：株式会社島津製作所
• 光学的測定装置および傾斜測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-398023   Applicant：ライカマイクロシステムスイェーナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
• 走査型光学顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-321292   Applicant：オリンパス株式会社