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J-GLOBAL ID：200903072534034128

層および表面特性の光学測定方法およびその装置

Inventor：
ロゼンタール ピーター エー.

About ロゼンタール ピーター エー.

, 
エックスユー ジャズハン

About エックスユー ジャズハン


Applicant, Patent owner：
エムケーエス インストゥルメンツ インコーポレーテッド

About エムケーエス インストゥルメンツ インコーポレーテッド


Agent (1)： 伊東 哲也
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001523592
Publication number (International publication number)：2003509667
Application date： Sep. 15, 2000
Publication date： Mar. 11, 2003
Summary：
【要約】透明および非透明基板における層および表面特性(SB、SF)の光学測定方法およびその装置。共焦点に配置されたストップ視野絞り(11)が照射域を規定するのに使用され、もう1つの絞り(13)が、分析されるサンプルの正面(SF)またはその他の表面からの反射光を受け取り、また分析される表面の裏面または焦点面下の部分からのゴースト反射を拒否するのに使用される。
Claim (excerpt)：
測定位置に配置された仕掛品の光学測定を行う方法であって、該仕掛品は少なくとも1つの実質的に非散乱性、反射性表面および厚み寸法を有し、以下のステップを含むことを特徴とする前記方法: (a)少なくとも1光線の放射を前記仕掛品の1つの面上に投射し、該光線は1方向に延長され、かつ該方向に対し実質的に垂直な方向に比較的狭くなっている前記1つの面の少なくとも1つの照射域を作成するようフォーカスされ、前記光線は、1つの域の中間に位置する面に対して、そして該域および該1つの面の両方の長さに対し垂直に方位角を取って+45°〜-45°の範囲の角度に配置される経路に沿って照射され、該経路はまた、通常から前記1つの仕掛品の面に対し、15°〜75°の位置に配置され、前記仕掛品は、照射線を反射し、結果的に照射域のそのようなゴースト像が仕掛品の該1つの面上に形作られることになる前記1つの面の下の少なくとも1つの表面下の構造物を有し、この照射条件は前記1つの照射域と重なり、ゴースト像は避けられることになり、 (b)該1つの照射域からの反射放射のうち実質的に独占的にゴースト像放射の発出を検出する。
IPC (5)：
G01N 21/35 ,  G01N 21/21 ,  G01N 21/27 ,  G01N 21/33 ,  H01L 21/66
FI (7)：
G01N 21/35 Z ,  G01N 21/21 Z ,  G01N 21/27 A ,  G01N 21/33 ,  H01L 21/66 N ,  H01L 21/66 P ,  H01L 21/66 Q
F-Term (31)：
2G059AA05 ,  2G059BB10 ,  2G059BB16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE05 ,  2G059EE12 ,  2G059GG00 ,  2G059GG01 ,  2G059GG04 ,  2G059HH01 ,  2G059HH02 ,  2G059HH03 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ14 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ24 ,  2G059KK01 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  4M106AA01 ,  4M106AA10 ,  4M106AA12 ,  4M106BA07 ,  4M106BA08 ,  4M106CA48 ,  4M106CB01 ,  4M106CB30 ,  4M106DH12 ,  4M106DH13 ,  4M106DJ19
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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