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J-GLOBAL ID:200903089797277092
電子顕微鏡用メッシュ及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
山下 穣平
, 志村 博
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003410696
Publication number (International publication number):2005174657
Application date: Dec. 09, 2003
Publication date: Jun. 30, 2005
Summary:
【課題】 ミクロトーム等によって得られる超薄膜切片検体を的確かつ容易にメッシュ上の所望の位置に採取することを可能にする。【解決手段】 電子顕微鏡に用いる試料を保持するためのメッシュであって、前記試料を保持して観察するための領域と、前記領域を囲む周辺部を有し、前記領域と前記周辺部の親水性が異なる。前記領域の親水性が前記周辺部の親水性より大きい。スパッタリングによるその製造方法は、室内で親水処理用電極板をターゲット電極に被せる工程と、前記電極板の直下にカーボン膜面を上にしてプラスチック支持膜を張ったメッシュを置き、マスクをメッシュに載せる工程と、前記室内を排気した後、電圧を印加してグロー放電を起こしマスクで覆われていないメッシュの部分に親水処理を行う工程と、を有する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
電子顕微鏡に用いる試料を保持するためのメッシュであって、
前記試料を保持して観察するための領域と、前記領域を囲む周辺部を有し、
前記領域と前記周辺部はその親水性が異なることを特徴とする電子顕微鏡用メッシュ。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (6):
2G052DA33
, 2G052EC16
, 2G052GA34
, 2G052JA04
, 2G052JA07
, 5C001DD00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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電子顕微鏡用グリッドメッシュ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-376581
Applicant:株式会社リコー
Cited by examiner (6)
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