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J-GLOBAL ID:200903089990407360
近赤外線カット材料及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小林 雅人 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001071747
Publication number (International publication number):2002264278
Application date: Mar. 14, 2001
Publication date: Sep. 18, 2002
Summary:
【要約】【課題】従来技術の難点を解消し、近赤外線吸収色素等を含有する樹脂塗膜中の残存溶媒量を極少に制御することにより、高温下における前記樹脂塗膜中の近赤外線吸収色素等の長期安定性を大幅に改良した近赤外線カット材料及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明が採用した近赤外線カット材料は、透明基材上に、少なくとも近赤外線吸収色素と550〜620nmに極大吸収波長を有する色素とを含有する透明樹脂塗膜を積層してなると共に、前記透明樹脂塗膜中の残存溶媒量が、5重量ppm以上且つ500重量ppm未満であることを特徴とする。
Claim (excerpt):
透明基材上に、少なくとも近赤外線吸収色素と550〜620nmに極大吸収波長を有する色素とを含有する透明樹脂塗膜を積層してなると共に、前記透明樹脂塗膜中の残存溶媒量が、5重量ppm以上且つ500重量ppm未満であることを特徴とする近赤外線カット材料。
IPC (3):
B32B 27/20
, B32B 7/02 103
, G02B 5/22
FI (3):
B32B 27/20 A
, B32B 7/02 103
, G02B 5/22
F-Term (38):
2H048CA04
, 2H048CA09
, 2H048CA12
, 2H048CA19
, 2H048CA26
, 2H048CA29
, 4F100AH03B
, 4F100AH03C
, 4F100AH03H
, 4F100AH08B
, 4F100AH08H
, 4F100AK01B
, 4F100AK25
, 4F100AK41
, 4F100AK43B
, 4F100AK45B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100CA13B
, 4F100CA13C
, 4F100CC00B
, 4F100EH462
, 4F100EJ242
, 4F100EJ862
, 4F100GB41
, 4F100JD10B
, 4F100JD14B
, 4F100JD14C
, 4F100JL02
, 4F100JL05
, 4F100JL11C
, 4F100JN01A
, 4F100JN01C
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
近赤外線吸収フィルタ-
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-343638
Applicant:東洋紡績株式会社
-
近赤外吸収組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-321176
Applicant:日清紡績株式会社
-
プラズマディスプレイパネル用前面フィルターおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-332786
Applicant:三菱化学株式会社
-
光学フィルター
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-321647
Applicant:三井化学株式会社
-
トナー及び画像形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-094159
Applicant:キヤノン株式会社
-
近赤外吸収フィルター用組成物及び該組成物による近赤外吸収フィルター
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-269676
Applicant:日清紡績株式会社
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