Pat
J-GLOBAL ID：200903090261081690

反射体の特性を決定する装置及びその方法

Inventor：
ペーター・シュヴァルツ

About ペーター・シュヴァルツ


Applicant, Patent owner：
ビック-ガルトナー・ゲーエムベーハー

About ビック-ガルトナー・ゲーエムベーハー


Agent (1)： 志賀 正武 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002137514
Publication number (International publication number)：2003042965
Application date： May. 13, 2002
Publication date： Feb. 13, 2003
Summary：
【要約】【課題】 不均質反射体の統計的特性を決定できる装置を提供することである。【解決手段】 光を測定表面へ放射する少なくとも一の照明手段と;測定表面から反射された光を記録する少なくとも一の検出手段と;を備え、検出手段の少なくとも一つが複数の光感応性センサ手段を備え、各センサ手段で受光した光に特徴的な測定値がそれぞれのセンサ手段から発することができ;さらに、少なくとも一の第1の所定のしきい値を備える少なくとも一のメモリ手段と;少なくとも一の処理手段を備えかつ測定シーケンスを制御する少なくとも一の制御手段と;を備え、測定シーケンスは、センサ手段の測定値が第1のしきい値を超えるときにセンサ手段の測定値を第1の表面タイプに割り当てるように、制御手段によって制御可能であり;制御手段が、第1の表面タイプを特徴付ける少なくとも一の統計的パラメータを決定するを可能とするように構成されたことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
反射体特に不均一反射体の特性を決定する装置であって、光を測定表面へ放射する少なくとも一の照明手段と;前記測定表面から反射された光を記録する少なくとも一の検出手段と;を備え、前記の少なくとも一の検出手段の少なくとも一つが複数の光感応性センサ手段を備え、各センサ手段で受光した光に特徴的な測定値が実質的にそれぞれの前記センサ手段から発することができ;前記装置はさらに、少なくとも一の第1の所定のしきい値を備える少なくとも一のメモリ手段と;少なくとも一の処理手段を備えかつ測定シーケンスを制御する少なくとも一の制御手段と;を備え、測定シーケンスは、センサ手段の測定値が前記第1のしきい値を超えるときにセンサ手段の測定値を第1の表面タイプに割り当てるように、前記制御手段によって制御可能であり;前記制御手段が、前記第1の表面タイプを特徴付ける少なくとも一の統計的パラメータを決定するを可能とするように構成されている装置。
IPC (4)：
G01N 21/88 ,  G01J 3/50 ,  G01J 3/51 ,  G01N 21/27
FI (4)：
G01N 21/88 Z ,  G01J 3/50 ,  G01J 3/51 ,  G01N 21/27 B
F-Term (42)：
2G020AA08 ,  2G020DA06 ,  2G020DA13 ,  2G020DA22 ,  2G020DA24 ,  2G020DA31 ,  2G020DA32 ,  2G020DA34 ,  2G020DA43 ,  2G020DA52 ,  2G051AA89 ,  2G051AA90 ,  2G051AB07 ,  2G051AB20 ,  2G051BA01 ,  2G051BA10 ,  2G051BA20 ,  2G051BB07 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CB01 ,  2G051CC07 ,  2G051CC11 ,  2G051CC15 ,  2G051CC17 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA17 ,  2G051EB01 ,  2G051FA10 ,  2G059AA02 ,  2G059EE02 ,  2G059EE12 ,  2G059EE13 ,  2G059GG02 ,  2G059GG03 ,  2G059HH02 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ17 ,  2G059KK04 ,  2G059MM02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (11)
  • 表面性状評価装置および表面性状評価方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-014382   Applicant：本田技研工業株式会社
  • 特公平6-001249
  • 特許第2541735号
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM