Pat
J-GLOBAL ID:200903090322350524
新規高分子およびこれを用いた化粧料
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
長谷川 洋子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000096949
Publication number (International publication number):2001278982
Application date: Mar. 31, 2000
Publication date: Oct. 10, 2001
Summary:
【要約】【課題】 顔料分散性向上効果に優れる新規な共重合体、およびこれを配合する化粧料を提供する。【解決手段】 ポリシロキサン部と、少なくともスルホン酸基を含有する親水性部とを構成単位として含有するブロック共重合体、およびこれを配合してなる化粧料。
Claim (excerpt):
下記一般式(I)、(II)で示される繰返し単位のいずれか1種以上を含むポリシロキサン部と、少なくともスルホン酸基(-SO3H)を含む親水性部とを構成単位として含有するブロック共重合体。【化1】【化2】一般式(I)、(II)中、各符号は以下の意味を示す。R1:それぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、またはフェニル基;R2:水素原子、または炭素原子数1〜6のアルキル基;R3:炭素原子数1〜6のアルキル基、またはシアノ基;CO-Y-CO:二塩基酸残基;A:-NH-または-O-:B:酸素原子を介していてもよい炭素原子数1〜6のアルキレン基;m:1〜10,000の数;p:0〜6の数。
IPC (10):
C08G 77/442
, A61K 7/00
, A61K 7/021
, A61K 7/027
, A61K 7/031
, A61K 7/032
, A61K 7/043
, A61K 7/13
, A61K 7/38
, A61K 7/42
FI (10):
C08G 77/442
, A61K 7/00 J
, A61K 7/021
, A61K 7/027
, A61K 7/031
, A61K 7/032
, A61K 7/043
, A61K 7/13
, A61K 7/38
, A61K 7/42
F-Term (59):
4C083AA122
, 4C083AB132
, 4C083AB212
, 4C083AB222
, 4C083AB232
, 4C083AB242
, 4C083AB432
, 4C083AB442
, 4C083AC012
, 4C083AC022
, 4C083AC032
, 4C083AC072
, 4C083AC102
, 4C083AC122
, 4C083AC242
, 4C083AC342
, 4C083AC352
, 4C083AC372
, 4C083AC392
, 4C083AC402
, 4C083AC422
, 4C083AC442
, 4C083AC472
, 4C083AC532
, 4C083AC542
, 4C083AD072
, 4C083AD092
, 4C083AD152
, 4C083AD161
, 4C083AD162
, 4C083AD172
, 4C083AD262
, 4C083AD512
, 4C083CC12
, 4C083CC13
, 4C083CC14
, 4C083CC17
, 4C083CC19
, 4C083CC28
, 4C083CC36
, 4C083DD11
, 4C083DD17
, 4C083DD21
, 4C083DD23
, 4C083DD27
, 4C083DD32
, 4C083EE01
, 4C083EE07
, 4C083EE17
, 4C083FF01
, 4C083FF05
, 4J035BA02
, 4J035CA01N
, 4J035CA022
, 4J035GA02
, 4J035GB02
, 4J035GB03
, 4J035GB08
, 4J035LB14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (16)
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ビニル/シリコーン系ブロック共重合体及びアルミ用高光沢電着塗料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-146502
Applicant:昭和高分子株式会社
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Application number:特願平4-019226
Applicant:昭和高分子株式会社
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Application number:特願平5-146503
Applicant:昭和高分子株式会社
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Application number:特願平6-157883
Applicant:昭和高分子株式会社
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Application number:特願平9-303420
Applicant:株式会社マンダム, 和光純薬工業株式会社
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Application number:特願平9-361849
Applicant:株式会社マンダム, 和光純薬工業株式会社
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特開平4-372675
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Application number:特願平9-251803
Applicant:花王株式会社
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Application number:特願平8-113461
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Application number:特願平7-257651
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Application number:特願平8-288215
Applicant:花王株式会社
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Application number:特願平8-352339
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Application number:特願2000-096947
Applicant:株式会社資生堂
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Application number:特願2000-096948
Applicant:株式会社資生堂
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Application number:特願平11-006810
Applicant:共栄社化学株式会社
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Application number:特願平11-256261
Applicant:大阪有機化学工業株式会社
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