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J-GLOBAL ID：200903090606498254
レジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994187831
Publication number (International publication number)：1996029983
Application date： Jul. 18, 1994
Publication date： Feb. 02, 1996
Summary：
【要約】【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 樹脂結合剤と酸発生剤とを含有する放射線感応性組成物であって、樹脂結合剤が狭分散性の水素添加フェノール樹脂のヒドロキシル基の少なくとも一部の水素原子が酸不安定性基または酸不安定性基を含む基によって置換されている樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
樹脂結合剤と酸発生剤とを含有する放射線感応性組成物であって、樹脂結合剤が狭分散性の水素添加フェノール樹脂のヒドロキシル基の少なくとも一部の水素原子が酸不安定性基または酸不安定性基を含む基によって置換されている樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/023 511
, H01L 21/027
Cited by examiner (7)
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