レジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西川繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992224720
Publication number (International publication number)：1994051518
Application date： Jul. 31, 1992
Publication date： Feb. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】感度、解像度、耐エッチング性、及び保存安定性などのレジスト特性が高度にバランスのとれたレジスト材料、特に、半導体素子の微細加工用ポジ型レジストとして好適なレジスト組成物を提供すること。【構成】 (A)アルカリ可溶性の水素添加フェノール樹脂の水酸基の少なくとも一部を酸不安定性基で置換した樹脂、及び(B)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性の水素添加フェノール樹脂の水酸基の少なくとも一部を酸不安定性基で置換した樹脂、及び(B)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/022 , G03F 7/029 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

感放射線性樹脂組成物溶液
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-198742 Applicant：日本合成ゴム株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-134431 Applicant：日本合成ゴム株式会社
フォトイメージアブル組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-107077 Applicant：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド

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