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J-GLOBAL ID：200903090718947302

平滑表面をもつ有機イオン結晶の製造方法

Inventor： 南條 弘 ,  銭 朴 ,  鈴木 敏重
Applicant, Patent owner： 工業技術院長
Agent (1)： 工業技術院東北工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999284351
Publication number (International publication number)：2001105285
Application date： Oct. 05, 1999
Publication date： Apr. 17, 2001
Summary：

【要約】【課題】 比較的簡単な操作により、分子レベルで平滑化された面を有する有機イオン結晶を得る。【解決手段】 有機イオン結晶表面に、先端曲率半径5〜40nmの探針を接触させ、この探針に5〜300nNの圧力を印加しながら二次元的に走査し、中心線表面粗さ(Ra)5nm以下及び最大高さ(Rmax)50nm以下になるまで研削する。

Claim (excerpt)：

有機イオン結晶表面に、先端曲率半径5〜40nmの探針を接触させ、この探針に5〜300nNの圧力を印加しながら二次元的に走査し、中心線表面粗さ(Ra)5nm以下及び最大高さ(Rmax)50nm以下になるまで研削することを特徴とする平滑表面をもつ有機イオン結晶の製造方法。

IPC (2)：

B24B 1/00 ,  G02F 1/361

FI (2)：

B24B 1/00 B ,  G02F 1/361

F-Term (9)：

2K002CA05 ,  2K002DA01 ,  2K002EA01 ,  2K002FA22 ,  2K002HA13 ,  3C049AA09 ,  3C049BA02 ,  3C049CA01 ,  3C049CA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 研磨方法及び研磨装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-117724   Applicant：日本油脂株式会社, 土肥俊郎
• 微細加工方法及びこの方法で加工された加工物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-328429   Applicant：藤平正道, 大日本印刷株式会社