投影露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：平木祐輔 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996038017
Publication number (International publication number)：1997232213
Application date： Feb. 26, 1996
Publication date： Sep. 05, 1997
Summary：

【要約】【課題】比較的簡単な構成で投影光学系の歪曲収差を補正できるようにする。【解決手段】レチクルRに形成されたパターンをウエハW上に投影する投影光学系PLを構成する光学素子L3にヒーターH1,H2等の温度可変手段を設け、光学素子L3に所定の温度分布を与えて物理的に変形(L3’)させることで投影光学系PLの光学特性を修正し、歪曲収差を補正する。

Claim (excerpt)：

レチクルを照明する照明系と、感光基板を保持する基板ステージと、前記レチクルのパターン像を前記感光基板上に形成する投影光学系とを含む投影露光装置において、前記投影光学系を構成する光学素子の温度を変化させる温度可変手段と、前記光学素子の温度分布を計測する温度計測手段と、前記温度計測手段によって計測された温度分布に基づいて前記温度可変手段を制御して前記光学素子に所定の温度分布を与えることにより前記投影光学系の収差を補正する温度分布制御手段とを備えることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 516 E , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開平2-090510
投影露光装置及びデバイスの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-090302 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭60-163046

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