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J-GLOBAL ID：200903091101589936

転写マスク及びその製造方法

Inventor：
雨宮 勲

About 雨宮 勲


Applicant, Patent owner：
ホーヤ株式会社

About ホーヤ株式会社


Agent (1)： 藤村 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996357055
Publication number (International publication number)：1998189435
Application date： Dec. 26, 1996
Publication date： Jul. 21, 1998
Summary：
【要約】【課題】 熱伝導性及び導電性に優れ、照射耐性及び帯電防止性能に優れ、マスク加工後及びマスク使用時(描画時)におけるパターン位置精度に優れる転写マスクを提供する。【解決手段】 支持枠部1aに支持された薄膜部2bに開口を形成してなる転写マスクにおいて、薄膜部2bを炭素系材料の膜(例えば、カーボン、DLC、グラファイト、ダイヤモンド、炭素からなるアモルファス構造の膜など)で形成する。
Claim (excerpt)：
支持枠部に支持された薄膜部に開口を形成してなる転写マスクであって、薄膜部が炭素系材料の膜からなることを特徴とする転写マスク。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/16
FI (4)：
H01L 21/30 541 R ,  G03F 1/16 B ,  G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 531 M
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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