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J-GLOBAL ID：200903053017532687

アパーチャ

Inventor： 林 健太
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Agent (1)： 市之瀬 宮夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993323226
Publication number (International publication number)：1995152150
Application date： Nov. 29, 1993
Publication date： Jun. 16, 1995
Summary：

【要約】【目的】 荷電ビーム照射時の熱による変形及び溶解が生じない、しかも作製が容易で精度の高い荷電ビーム露光装置用のアパーチャを提供する。【構成】 荷電ビームを用いた露光方法に用いられるアパーチャ9であって、導電性のある例えばSi単結晶で作製された支持基板1上に支持基板よりも熱伝導率の高いAgのような物質からなる開口部を有する金属膜8を形成してなる。

Claim (excerpt)：

荷電ビームを用いた露光方法に用いられ、開口部を有する第1の膜領域と、該第1の膜領域を支持し且つ該第1の膜領域より厚い第2の膜領域を有するアパーチャにおいて、前記第1の膜領域に、アパーチャを形成する主たる材料よりも熱伝導率の高い物質からなる層を少なくとも一層付与してなることを特徴とするアパーチャ。

IPC (2)：

G03F 1/16 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平4-240719
  
• 特開昭61-112318
  
• アパーチャ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-308750   Applicant：凸版印刷株式会社
• アパーチャの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-312596   Applicant：凸版印刷株式会社
• アパーチャマスク及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-224366   Applicant：株式会社東芝