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J-GLOBAL ID：200903091127696919

化学気相蒸着法による薄膜形成方法

Inventor： 日野 守 ,  屋良 卓也
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997278869
Publication number (International publication number)：1999117069
Application date： Oct. 13, 1997
Publication date： Apr. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】 金属アルコキシド、共沸性有機溶媒及びキレート化剤よりなる原料を用いて、CVD法で薄膜を形成する際に、原料の大容量供給ができ、加水分解安定性を高めることが可能な、化学気相蒸着法による薄膜形成方法を提供する。【解決手段】 金属アルコキシド、共沸性有機溶媒及びキレート化剤からなる原料をキャリアーガスと共に反応領域に導入し、化学気相蒸着法により、基材上に金属酸化物薄膜を形成する。

Claim (excerpt)：

金属アルコキシド100重量部に対して共沸性有機溶媒5〜80重量部、及び金属アルコキシドに対して2〜4倍モルのキレート化剤を添加してなる原料をキャリアーガスと共に反応領域に導入し、化学気相蒸着法により、基材上に金属酸化物薄膜を形成することを特徴とする化学気相蒸着法による薄膜形成方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 化学気相蒸着用金属アルコキシド組成物及びそれを用いた絶縁膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-080524   Applicant：株式会社日鉱共石
• 特開昭59-146953
  
• CVD法による酸化物系誘電体薄膜の製法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-289780   Applicant：三菱電機株式会社
• 特開昭59-146953