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J-GLOBAL ID：200903091128439367

プラズマ処理装置

Inventor：
福地 祐介

About 福地 祐介


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (2)： 伊東 哲也 ,  齋藤 和則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007012197
Publication number (International publication number)：2008181912
Application date： Jan. 23, 2007
Publication date： Aug. 07, 2008
Summary：
【課題】 プラズマ生成室102と基体104の処理室103との間にガスの流れを制御する仕切り板111を有する装置において仕切り板の交換なしにガスコンダクタンスの変更を行う。【解決手段】 仕切り板111内部に仕切り板を加熱あるいは冷却する手段を設ける。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
プラズマが生成される生成室と被処理基体が配置される処理室とを備える処理容器と、前記生成室と処理室との間を仕切るように設置されるとともに処理用ガスを通過させる貫通孔が開けられた仕切り板とを有するプラズマ処理装置であって、 前記仕切り板の温度を調整する温調手段を有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4)：
H01L 21/306 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46
FI (4)：
H01L21/302 101D ,  C23C16/511 ,  H01L21/31 B ,  H05H1/46 B
F-Term (52)：
4K030AA02 ,  4K030AA06 ,  4K030AA11 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030BA02 ,  4K030BA12 ,  4K030BA17 ,  4K030BA18 ,  4K030BA20 ,  4K030BA29 ,  4K030BA30 ,  4K030BA37 ,  4K030CA02 ,  4K030CA04 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030EA03 ,  4K030FA01 ,  4K030HA16 ,  4K030JA10 ,  4K030KA12 ,  4K030LA15 ,  5F004AA15 ,  5F004BA16 ,  5F004BB14 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BD01 ,  5F004BD03 ,  5F004BD04 ,  5F004BD07 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004CA09 ,  5F004DA26 ,  5F004DB26 ,  5F045AA08 ,  5F045AA20 ,  5F045BB15 ,  5F045EB06 ,  5F045EE20 ,  5F045EF05 ,  5F045EG02 ,  5F045EG06 ,  5F045EJ01 ,  5F045EK01 ,  5F045GB05 ,  5F045GB06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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