デバイスの製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三俣弘文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997313795
Publication number (International publication number)：1998171110
Application date： Nov. 14, 1997
Publication date： Jun. 26, 1998
Summary：

【要約】【課題】デバイス製造のためのリソグラフィ方法及びこの方法で使用するためのエネルギー感受性材料を提供する。【解決手段】エネルギー感受性材料層を基板表面に形成する。220nm〜300nmの範囲内の波長の輻射線を用いてエネルギー感受性材料層中にパターン画像を描写する。その後、パターンを現像する。レジスト内にパターンを現像した後、これを下部の基板に転写する。レジスト材料はアセタール又はケタール酸感受性成分を有するポリマーと共に、光酸生成剤を含有する。光酸生成剤は、前記範囲内の波長の輻射線に暴露されると、pKaが2以下の酸を放出する。

Claim (excerpt)：

(i)エネルギー感受性レジスト材料層を基板上に形成するステップと、(ii)パターン毎に、約220nm〜約300nmの範囲内の輻射線を照射することにより、エネルギー感受性レジスト材料内にパターン画像を描写するステップと、(iii)画像をパターンに現像するステップと、(iv)パターンを下部の基板に転写するステップとからなり、前記エネルギー感受性レジスト材料は、?@ポリマー主鎖部分中に組込まれた、下記の化1【化1】(式中、Zは酸により化学変化を起こしやすいアセタール又はケタール成分である)で示される酸感受性ポリマーと、?A下記の化2【化2】(式中、Rはメチル、エチル及びプロピルからなる群から選択される低級アルキル基であり、Xは、輻射線に暴露されたときにアリールスルホネート成分により分解する発色団である)で示される構造を有し、pKaが約2以下のスルホン酸を生成するエネルギー感受性化合物と、?B窒素含有塩基とからなることを特徴とするデバイスの製造方法。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 501 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-073169 Applicant：日本合成ゴム株式会社
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-252351 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開平4-280249

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