ポジ型感光性組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩野平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994252351
Publication number (International publication number)：1996123030
Application date： Oct. 18, 1994
Publication date： May. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】露光後から加熱処理までの経時による酸の拡散又は失活の防止が容易且つ適切にでき、且つ溶解阻止効果や現像性が改善され、良好なプロファイルと高解像力を有するポジ型感光性組成物を提供することである。【構成】水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、酸により分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する、分子量3,000以下の低分子酸分解性溶解阻止化合物、及び塩基性窒素を有し、重量平均分子量が2000以上の樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

Claim (excerpt)：

(a)水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、(b)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(c)酸により分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する、分子量3,000以下の低分子酸分解性溶解阻止化合物、及び(d)塩基性窒素を有し、重量平均分子量が2000以上の樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 501 , G03F 7/028 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-299093 Applicant：富士写真フイルム株式会社
ポジ型放射感応性混合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-025751 Applicant：ヘキストジャパン株式会社
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-125006 Applicant：株式会社東芝

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Cited by examiner (9)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-125006 Applicant：株式会社東芝
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-299093 Applicant：富士写真フイルム株式会社
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-298995 Applicant：和光純薬工業株式会社

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